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首發（fā）19億一台的光刻機！Intel將派人幫助ASML加速生（shēng）產（chǎn）

發布時間：2022-03-23 01:11:45瀏覽次數：51

包括AMD及NVIDIA在內的半導體公（gōng）司都預測今年下半年全球芯片產能（néng）緊張的（de）局麵就會緩解，然而生產光刻機的ASML公（gōng）司對此表示質疑，該公司CEO Peter Wennink日前警告稱半導體芯片製（zhì）造公司的生產計劃野心勃勃，但可能麵臨設備短缺（quē）。

Peter Wennink在采訪中表示，盡管各大半（bàn）導體（tǐ）公司投資了數十億甚至數百億美元以（yǐ）提高產能（néng），然（rán）而（ér）他們並不（bú）可能快（kuài）速提高產能，因為製約產能的還有半導體（tǐ）設備。

就連ASML公司自己（jǐ）的光（guāng）刻機生產都受到了限製，不過Intel CEO基辛格此前表示他們已經（jīng）派（pài）人去幫助ASML公（gōng）司加速生產。

Intel並沒有提及他們派出多少工程師以（yǐ）及是（shì）怎樣幫助ASML提高光刻機產量的，但是他們（men）很可能協助ASML加速（sù）新一代EUV光刻機的生產。

現在的EUV光刻機還是NA 0.33技術的，Intel的重點押注在了下一代EUV光刻機，也就是NA 0.55的ASML新（xīn）一代光刻機，據說成本高達3億美元，約合19億元。

實際上4年（nián）來Intel實際上（shàng）已經下單了6台NA 0.55的EUV光刻機，其中分為兩種，Twinscan Exe:5000係列（liè）主要用於工藝研（yán）發，產能（néng）輸出是185WPH，每（měi）小時生產185片晶圓，2023年上半年交付。

量產型的NA 0.55光刻機是（shì）Twinscan Exe:5200，產能（néng）提升（shēng）到200WPH，每小時200片晶圓，預計（jì）會在2024年下線，Intel的20A工藝正好是在2024年量產。

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